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集成電路布圖設計保護的立法模式
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華盛頓公約及TRIPS協議只要求各國旅行保護布圖設計的義務．并未對立法模式做出硬性規定。根據華盛頓公約第4條，各國可采用的立法模式可以是專門法，也可以是版權法、專利法、使用新型法、外觀設計法、反不正當競爭法或者任何其他法律，或者上述任何法律的組合。

(一)專門法保護模式

目前，包括中國在內的絕大多數國家采用專門法來保護集成電路布圖設計。這種特別法集現有的版權法和專利法性質、規范為一體，形成一種“特別權利”保護模式。這種專門法在其規范中吸收、借鑒了專利法和版權法中某些成熟的規定，如我國《集成電路布圖設計保護條例》，其在權利取得上采取了與專利法一樣的登記注冊制，且登記注冊機關與專利法一樣，同為國家知識產權局，在審查上則采用了與外觀設計審查相同的形式審查。

(二)外觀設計保護模式

采用外觀設計保護模式的國家，南非當屬典型。1993年12月22日通過的南非《外觀設計法》所保護的客體除了藝術性外觀設計以外，還包括功能性的外觀設計。這種功能性外觀設計是“適用于任何物品的外觀設計，無論其是適用于該物品的式樣，還是形狀，抑或是結構，而且也不論其使用方式如何，該設計應具有其所使用的物品能夠完成特定功能所必需的特征，包括集成電路拓撲圖、掩模作品已經系列掩模作品。”該法首次將布圖設計納入工業產權的外觀設計范疇，開創了用單純工業產權法(外觀設計)保護集成電路的先河。


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