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布圖設計的保護模式

鑒于布圖設計對于微電子技術及行業的重要性，有必要為其提供充分的法律保護。理論上存在兩種基本選擇:一是利用現有的專利法、著作權法、反不正當競爭法等對其加以保護，一是制定專門法對其加以保護。

(一)著作權法保護模式

布圖設計作為一種三維配置形態的圖形設計，與著作權法保護的作品有一定的相似性，而且，布圖設計保護的一個重要方面就是禁止他人未經許可而復制該布圖設計，因此，著作權法的某些保護手段可以適用于布圖設計的保護。但布圖設計畢竟不是一般作品，用著作權法對其予以保護并不合適:

1.一般而言，著作權法保護的對象是非實用的作品，而布圖設計之所以受法律的保護則是因其具有實用性。

2.依照著作權法，對于具有原創性的作品一般均予以保護。但該保護若應用于布圖設計，則不利于技術進步和創新。作為一種科技成果，布圖設計的價值取決于其在技術上的進步性，這也是法律對其加以保護的前提。如果對那些不具進步性的、為專業技術人員所熟知的布圖設計進行保護，則有悖于布圖設計保護的宗旨，無法起到鼓勵創新的作用。

3.著作權法無法充分保護布圖設計。著作權最主要的內容就是復制權，著作權法主要禁止他人對作品未經許可的復制，并不禁止實施作品內容的行為。然而，布圖設計保護不僅在于禁止他人未經許可的復制，更在于禁止他人將該布圖設計運用于生產中。換言之，布圖設計權的內容除了復制權外，還包括商業利用權，而這是著作權法無法提供的。

4.在集成電路產業中，反向工程技術已為世界各國廠商普遍采用。依據著作權法，在原作基礎上進行改編的權利應當屬于作者，而實施反向工程的最終目的則可能是改進他人的集成電路。如果依照著作權法將這類行為視為侵權，就有礙集成電路產業的發展。

5.著作權法對著作權所設置的過長保護期不適合對布圖設計的保護。集成電路及其布圖設計的更新換代速度非常快，而著作權的保護期限過長，如果用著作權法來保護布圖設計，則不利于集成電路產業的快速發展。

(二)專利法保護模式

含有布圖設計的集成電路，若組裝成能完成一定任務、具有特定功能且符合專利條件的產品的話，則有可能獲得專利法的保護。但是，通過專利法保護布圖設計的模式存在以下障礙:

1.專利權的授予條件過于嚴格。根據專利法，一項發明創造必須具備較高的創造性方有可能被授予專利，即發明創造與現有技術相比，必須具有突出的實質性特點和顯著的進步。這一要求對集成電路來講顯得過于嚴格，使得大多數集成電路產品得不到專利法的保護。集成電路技術的發展主要表現在光刻線條的寬度不斷減小和集成規模的不斷提高，而這些都是工藝水平不斷提高的結果。一代新的集成電路產品，其布圖設計可能并沒有出現根本性的改進，也沒有產生意想不到的結果，即難以達到專利法所要求的創造高度。而且，在布圖設計中，經常使用一些現成的單元電路進行組合，而這些單元電路往往是最優化甚至是唯一性的設計，很難再做改進。因此，利用專利法最多只可能對布圖設計中的特定部分給予保護，而很少有可能對整個布圖設計給予保護。

2.申請專利的程序過于繁瑣、且頗費時日。而現代集成電路的更新、發展可謂日新月異，其產品生命周期一般較短。如果將集成電路產品申請專利，則很有可能專利還未批準，該項產品就已被淘汰了。

(三)反不正當競爭法保護模式

含有布圖設計的集成電路產品雖然存在一定的技術因素，但該產品一旦投入流通領域，其布圖設計就會為公眾所知悉，為相關領域的普通技術人員所理解，無法再作為技術秘密受反不正當競爭法的保護。同時，反不正當競爭法雖然對復制和簡單“反向工程”等不正當競爭行為能起到一定的制止效果，在一定程度上間接保護布圖設計人的利益，但是，面對集成電路行業廣泛存在的“反向工程”行為，很難對該行為的“不正當性”提供一個確切的判斷標準，其實際發揮作用的空間相當有限。

(四)專門法保護模式

綜上所述，傳統的知識產權法對布圖設計均無法提供有效的保護，因此，制定專門立法保護布圖設計就成為當今世界各國，乃至國際條約采用的通行做法。通過專門立法，可以針對布圖設計的特點為其量身定制保護制度，從而有效地保護布圖設計。

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