金融行業東莞電銷卡辦理

知名通信專家、財經網總編輯康釗在平臺的直播首秀“康釗財經大講堂”中圍繞“芯片斷供會遭遇滅頂之災,中國芯片業能否自救”的話題，談道“中國芯片就算解決了光刻機的難題，但還有很多上游產業被美國限制?！边@是何意？

我國光刻機發展史

據悉，芯片主要分為三大環節：芯片設計、芯片制造、芯片封裝，其中最為重要的要數“光刻機”，可以說光刻機就是在制造芯片時不可或缺的工具，沒有光刻機就沒有芯片。

但在過去，全球能夠生產高端光刻機的，被荷蘭的ASML所壟斷，而我國的光刻機起步晚，且由于《瓦森納協定》，美國能禁止荷蘭的光刻機出口中國，這就為我國生產研發芯片帶來了不小的困難。

但其實我國光刻機發展速度還是挺快的。最早顯示是在1965年開始研發自己的集成電路，但真正實現發展是2002年上海裝備公司（SMEE）成立之后，在光刻機被國外“卡脖子”這么久之后，看到了一絲曙光。

目前國內技術最領先的光刻設備廠商——上海微電子裝備公司可以做到最精密的加工制程是90nm，和荷蘭ASML的7nm的工藝相比，差距還是很高，但也別小瞧這90nm制程能力，這已經足夠驅動基礎的國防和工業。哪怕是出現禁止進口光刻機這種極端的情況時，中國仍然有芯片可用。

仍有別的產業被美國限制

不過就算解決了光刻機問題還有別的產業被美國限制。據了解，芯片產業除了最為重要的光刻機外，還包含若干的產業鏈，而每一道產業鏈對于芯片最終的成品而言都至關重要。

據了解，光刻機、芯片的應用材料都掌握在日本、美國人手中。比如，光刻機有一種核心材料較光刻膠，幾乎被日本廠商壟斷，即便中國芯片產業鏈有企業生產出光刻機，但如果沒有光刻膠，也造不出來光刻機。

目前我國90到14nm高端芯片制造所需的ArF光刻膠完全依賴進口，并且，多國禁止ArF光刻膠技術對我國進行輸入。這顯然于我國芯片制造安全不利。