光刻機(jī),這是個(gè)中國(guó)國(guó)產(chǎn)自研技術(shù)的軟肋,而美國(guó)最近對(duì)華為中興的制裁,已經(jīng)進(jìn)入白熱化,顯然他們深知我們的軟肋——缺乏芯片的高精密制造工藝。
光刻機(jī)通訊,目前最新進(jìn)的只有荷蘭的ASML公司的EUV光刻機(jī),已經(jīng)可以達(dá)到5nm工藝,而我們中國(guó)目前來(lái)說(shuō),大批量做出14nm工藝的芯片已然是一項(xiàng)挑戰(zhàn)。差距很明顯了,我們要如何超越呢?
目前看來(lái),光靠國(guó)產(chǎn)自研不是說(shuō)沒(méi)有可能研究出先進(jìn)的光刻機(jī),而是沒(méi)有足夠時(shí)間給我們?nèi)パ芯浚罋W洲完全研究出這種光刻機(jī)耗費(fèi)
近200年,那可是兩個(gè)世紀(jì)。而我們?nèi)绻约貉邪l(fā)出一臺(tái)EUV光刻機(jī),可以制造5納米、7納米工藝的芯片,即使不需要200年,也至少得花上個(gè)10年到20年不等,甚至更久。
如何做出先進(jìn)光刻機(jī)
這應(yīng)該是目前所有人都在思考的問(wèn)題,包括華為,包括中芯。
任正非想到的方法是引入國(guó)外歐美尖端人才,這是最直接的,畢竟技術(shù)本身就是附著在這些尖端人才身上的通訊,一旦引入,無(wú)疑是走上捷徑,即使耗費(fèi)巨資,如果真能把有用之才引入,那也是值得的。
但是懂光刻機(jī)制造的人才本來(lái)就是極為稀少的,目前看來(lái)主要存在于ASML、三星、臺(tái)積電、英特爾。后面三個(gè)公司是ASML的股東,也是代工芯片的巨頭,尤其是臺(tái)積電,是目前給華為和蘋(píng)果等手機(jī)大廠供貨的最大代工企業(yè)。這些人才無(wú)疑都會(huì)被他們給藏起來(lái),或者即使有機(jī)會(huì)接觸到,美國(guó)也會(huì)把這些人給拖住。
如果這條路走不通,我們?cè)撛趺崔k?
現(xiàn)在國(guó)家確實(shí)出手了,給國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體界崛起的中芯國(guó)際扶持,從最近中芯在香港股市的暴漲就可知道,這是國(guó)家隊(duì)出手了,扶持國(guó)內(nèi)具備自研能力的企業(yè),是目前完全可以做的。但是難受的是,中芯必然沒(méi)有臺(tái)積電這種老牌工廠強(qiáng)大,中芯目前能做出14nm的工藝已經(jīng)是值得褒獎(jiǎng),我們總不能壓著中芯說(shuō)你得馬上給我造出5nm的光刻機(jī)。
我覺(jué)得如果國(guó)家能把國(guó)內(nèi)現(xiàn)有的通信、電子、制造界的各大高校的科研頂尖團(tuán)隊(duì)進(jìn)行一個(gè)整合,斥資組建一個(gè)強(qiáng)大的科研組,基于國(guó)內(nèi)現(xiàn)有的最高工藝,去協(xié)助芯片界攻克難關(guān)。